دورية أكاديمية

Mechanism of Enhanced Etching of Ge Surfaces in Water Assisted by Reduced Graphene Oxide Sheets Effects of O2 Concentration in Water on Etching Rate

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Mechanism of Enhanced Etching of Ge Surfaces in Water Assisted by Reduced Graphene Oxide Sheets Effects of O2 Concentration in Water on Etching Rate / 還元グラフェンシートを援用したGe表面の選択エッチングの機構解明
المؤلفون: Kazuki Nakade, Kenta Arima, Kentaro Kawai, Mizuho Morita, Shaoxian Li, Tomoki Hirano, 中出 和希, 川合 健太郎, 平野 智暉, 有馬 健太, 李 韶賢, 森田 瑞穂
المصدر: Proceedings of JSPE Semestrial Meeting. 2017, :787
قاعدة البيانات: J-STAGE