التفاصيل البيبلوغرافية
| العنوان: |
Understanding etch properties of advanced chemically amplified EUV resist |
| المؤلفون: |
Park, Jong Keun, Aqad, Emad, Cen, Yinjie, Coley, Suzanne, Cui, Li, Hoelzel, Conner, Naab, Benjamin, Lee, Choong Bong, Rena, Rochelle, Kang, Philjae, Shin, You Rim, Limberg, David, Zhang, Lei |
| المساهمون: |
Altamirano-Sánchez, Efrain, Mohanty, Nihar |
| المصدر: |
Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XII |
| بيانات النشر: |
SPIE |
| سنة النشر: |
2023 |
| نوع الوثيقة: |
conference object |
| اللغة: |
unknown |
| DOI: |
10.1117/12.2659178 |
| الإتاحة: |
https://doi.org/10.1117/12.2659178Test |
| رقم الانضمام: |
edsbas.F72B0476 |
| قاعدة البيانات: |
BASE |
