Impacts of SiO2 planarization on optical thin film properties and laser damage resistance

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Impacts of SiO2 planarization on optical thin film properties and laser damage resistance
المؤلفون: Day, T, Wang, H, Jankowska, E, Reagan, B, Rocca, J, Menoni, C, Stolz, C, Mirkarimi, P, Folta, J, Roehling, J, Markosyan, A, Route, R, Fejer, M
سنة النشر: 2021
المجموعة: SciTec Connect (Office of Scientific and Technical Information - OSTI, U.S. Department of Energy)
مصطلحات موضوعية: 36 MATERIALS SCIENCE, 42 ENGINEERING, 71 CLASSICAL AND QUANTUM MECHANICS, GENERAL PHYSICS
الوصف: not provided
نوع الوثيقة: other/unknown material
وصف الملف: application/pdf
اللغة: unknown
العلاقة: http://www.osti.gov/servlets/purl/1338167Test; https://www.osti.gov/biblio/1338167Test
الإتاحة: http://www.osti.gov/servlets/purl/1338167Test
https://www.osti.gov/biblio/1338167Test
رقم الانضمام: edsbas.C7B1A542
قاعدة البيانات: BASE