دورية أكاديمية
Understanding ion and atom fluxes during HiPIMS deposition of NbCx films from a compound target ; Objasnění toku iontů a atomů během HiPIMS depozice vrstev NbCx ze složeného terče
| العنوان: | Understanding ion and atom fluxes during HiPIMS deposition of NbCx films from a compound target ; Objasnění toku iontů a atomů během HiPIMS depozice vrstev NbCx ze složeného terče |
|---|---|
| المؤلفون: | Farahani, Mina, Kozák, Tomáš, Pajdarová, Andrea Dagmar, Bahr, Ahmed, Riedl, Helmut, Zeman, Petr |
| بيانات النشر: | AVS Science and Technology |
| سنة النشر: | 2023 |
| المجموعة: | University of West Bohemia Digital Library / Digitální knihovna Západočeské univerzity v Plzni |
| مصطلحات موضوعية: | vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování, složený terč, diagnostika plazmatu, hmotnostní spektrometr, optická emisní spektroskopie, modelování plazmatu, high-power impulse magnetron sputtering, compound target, plasma diagnostics, mass spectrometer, optical emission spectroscopy, plasma modeling |
| الوصف: | K pochopení transportních procesů iontů a atomů ve vysokovýkonových pulzních magnetronových výbojích, které vedou ke změnám stechiometrie vrstev NbC během jejich depozice ze stechiometrického terče NbC při různých opakovacích frekvencích a pracovních cyklech, byla použita kombinace časově průměrované hmotnostní spektroskopie (MS), časově průměrované optické emisní spektroskopie (OES) a modelování procesů v plazmatu. Hmotnostní spektrometrie ukázala, že toky iontů prvků terče na substrát rostou s rostoucí hustotou výkonu v pulzu v důsledku rostoucí elektronové koncentrace, a tedy i pravděpodobnosti ionizace nárazem elektronů. Vzhledem k vyšší ionizační energii a mnohem nižšímu ionizačnímu průřezu C (ve srovnání s Nb) bylo zjištěno, že příspěvek iontů C k depozičnímu toku je prakticky zanedbatelný. Kromě toho OES sledovala koncentrace iontů a atomů v různých vzdálenostech od terče. Analýza OES odhalila, že koncentrace atomů klesají s rostoucí hustotou výkonu v pulzu. Naproti tomu koncentrace iontů vykazovaly nárůst, což je v souladu se zjištěními MS. Na základě údajů z MS, OES a modelování jsme byli schopni odhadnout toky atomů na substrát. Naše pozorování prokázala změnu složení toku materiálu na substrát s rostoucí hustotou výkonu v pulzu, což odpovídá změnám ve složení vrstev. Dále diskutujeme roli vnitřních procesů v plazmatu, které jsou za tuto změnu zodpovědné. ; A combination of time-averaged mass spectroscopy (MS), time-averaged optical emission spectroscopy (OES), and plasma transport modeling was employed to understand the transport processes of ions and atoms in high-power impulse magnetron sputtering discharges resulting in changes in the stoichiometry of NbC films during their deposition from a stoichiometric NbC compound target at different repetition frequencies and duty cycles. Mass spectrometry showed that the fluxes of ions originating from the elements of the target increase with increasing pulse power density due to an increasing electron density and, thus, electron-impact ionization ... |
| نوع الوثيقة: | article in journal/newspaper |
| وصف الملف: | 15 s.; application/pdf |
| اللغة: | English |
| تدمد: | 0734-2101 |
| العلاقة: | Journal of Vacuum Science and Technology A; FARAHANI, M. KOZÁK, T. PAJDAROVÁ, AD. BAHR, A. RIEDL, H. ZEMAN, P. Understanding ion and atom fluxes during HiPIMS deposition of NbCx films from a compound target. Journal of Vacuum Science and Technology A, 2023, roč. 41, č. 6, s. 1-15. ISSN: 0734-2101; 2-s2.0-85175522607; http://hdl.handle.net/11025/54913Test |
| DOI: | 10.1116/6.0002944 |
| الإتاحة: | https://doi.org/10.1116/6.0002944Test http://hdl.handle.net/11025/54913Test |
| حقوق: | Plný text není přístupný ; © The Author(s) ; closedAccess |
| رقم الانضمام: | edsbas.739BAE10 |
| قاعدة البيانات: | BASE |
| تدمد: | 07342101 |
|---|---|
| DOI: | 10.1116/6.0002944 |