دورية أكاديمية
Reactive HiPIMS deposition of Al-oxide thin films using W-alloyed Al targets ; Reaktivní HiPIMS depozice tenkých vrstev oxidů hliníku s využitím Al terčů dopovaných W
| العنوان: | Reactive HiPIMS deposition of Al-oxide thin films using W-alloyed Al targets ; Reaktivní HiPIMS depozice tenkých vrstev oxidů hliníku s využitím Al terčů dopovaných W |
|---|---|
| المؤلفون: | Kagerer, S., Zauner, L., Wojcik, T., Koloszvári, S., Kozák, Tomáš, Čapek, Jiří, Zeman, Petr, Riedl, H., Mayrhofer, P.H. |
| بيانات النشر: | Elsevier |
| سنة النشر: | 2021 |
| المجموعة: | University of West Bohemia Digital Library / Digitální knihovna Západočeské univerzity v Plzni |
| مصطلحات موضوعية: | R-HiPIMS depozice, oxid hlinitý, oxidace terče, polymorfní struktury, R-HiPIMS deposition, Alumina, Target poisoning, Polymorph structures |
| الوصف: | Článek detailně zkoumá vliv 2 at. % wolframu v hliníkovém terči na stabilitu procesu a fázové složení vrstev Al2O3 při DC magnetronovém naprašování a HiPIMS naprašování. Malá příměs W do Al terče dovoluje zvýšit parciální tlak kyslíku o více než 200 % při zachování stabilního depozičního procesu. Výsledky hmotnostní spektroskopie iontů ukazují vysoký podíl kyslíkových iontů ve výboji pro depozice uskutečněné v přechodovém režimu reaktivního výboje. Detailní analýza pomocí elektronového mikroskopu ukazuje přítomnost kovových fází ve vrstvách připravených s vyšší střídou pulzů (7,5 %). Snížení střídy na 3,75 % vede k vytvoření amorfních vrstev, jakmile je depozice udržována v kovovém módu při nejvyšším možném parciálním tlaku kyslíku. ; We investigated in detail the influence of 2 at.% tungsten in the Al-target on the process stability and phase formation during reactive DC magnetron sputtering as well as high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) of Al2O3-based coatings. The small addition of W to the Al target allows to increase the oxygen partial pressure by more than 200% while maintaining a stable deposition process. Ion mass spectroscopy measurements yield a promising high fraction of oxygen ions, when operating the W-containing target in the metal-to-poisoned transition mode. Detailed electron microscopy investigations show the presence of metallic phase fractions for higher duty cycles (7.5%). Decreasing the duty cycle to 3.75% leads to amorphous coatings when operating the Al-target at the highest oxygen partial pressure in metallic mode. |
| نوع الوثيقة: | article in journal/newspaper |
| وصف الملف: | 10 s.; application/pdf |
| اللغة: | English |
| تدمد: | 0257-8972 |
| العلاقة: | Surface and Coatings Technology; KAGERER, S. ZAUNER, L. WOJCIK, T. KOLOSZVÁRI, S. KOZÁK, T. ČAPEK, J. ZEMAN, P. RIEDL, H. MAYRHOFER, P. Reactive HiPIMS deposition of Al-oxide thin films using W-alloyed Al targets. Surface and Coatings Technology, 2021, roč. 422, č. 25 SEP 2021, s. "127467-1" - "127467-10". ISSN: 0257-8972; 2-s2.0-85110752168; http://hdl.handle.net/11025/45429Test; 685607200028 |
| DOI: | 10.1016/j.surfcoat.2021.127467 |
| الإتاحة: | https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2021.127467Test http://hdl.handle.net/11025/45429Test |
| حقوق: | © autoři ; openAccess |
| رقم الانضمام: | edsbas.3567C94B |
| قاعدة البيانات: | BASE |
| تدمد: | 02578972 |
|---|---|
| DOI: | 10.1016/j.surfcoat.2021.127467 |