التفاصيل البيبلوغرافية
| العنوان: |
Advanced EUV CAR small molecule compounds design and its impact to etch performance |
| المؤلفون: |
Cen, Yinjie, Park, Jong Keun, Coley, Suzanne M., Naab, Benjamin D., Cui, Li, Aqad, Emad, Alexandrescu, Stefan, Rena, Rochelle, Eckert, Sylvie, Behnke, Jason, Lee, ChoongBong, Petrillo, Karen E. |
| المساهمون: |
Guerrero, Douglas, Amblard, Gilles R. |
| المصدر: |
Advances in Patterning Materials and Processes XLI |
| بيانات النشر: |
SPIE |
| سنة النشر: |
2024 |
| نوع الوثيقة: |
conference object |
| اللغة: |
unknown |
| DOI: |
10.1117/12.3010931 |
| الإتاحة: |
https://doi.org/10.1117/12.3010931Test |
| رقم الانضمام: |
edsbas.1C2E298D |
| قاعدة البيانات: |
BASE |
