المؤلفون: Yao, Li‐Ren, Lu, Fu‐Hsing

المصدر: International Journal of Applied Ceramic Technology ; volume 10, issue 1, page 51-59 ; ISSN 1546-542X 1744-7402

الإتاحة: https://doi.org/10.1111/j.1744-7402.2012.02790.xTest

المؤلفون: Yao, Li‐Ren¹, Lu, Fu‐Hsing¹

المصدر: International Journal of Applied Ceramic Technology. Jan2013, Vol. 10 Issue 1, p51-59. 9p.

مصطلحات موضوعية: *VACUUM deposition, *ALUMINUM nitride films, *THIN films, *MAGNETRON sputtering, *DIELECTRICS, *WASTE gases

المؤلفون: 呂福興, LU, FU HSING, 李念庭, 范慧屏, 姚力仁, 詹慕萱, LEE, NIEN TING, FAN, HUNG PING, YAO, LI REN, CHAN, MU HSUAN

المساهمون: 劉緒倫

العلاقة: http://twpat.tipo.gov.tw/tipotwoc/tipotwkmTest; http://hdl.handle.net/11455/56275Test

الإتاحة: http://hdl.handle.net/11455/56275Test

المؤلفون: Leu, Ching-Chich, Yao, Li-Ren, Hsu, Ching-Pin, Hu, Chen-Ti

المصدر: Journal of the Electrochemical Society; March 2010, Vol. 157 Issue: 3