التفاصيل البيبلوغرافية
| العنوان: |
Identifying trends in photoresist polymer properties to improve line and space defects |
| المؤلفون: |
Rafael-Naab, Benjamin D., Park, Jong Keun, Aqad, Emad, Cen, Yinjie, Coley, Suzanne M., Cui, Li, Hoelzel, Conner, Lee, Choong Bong, Behnke, Jason, Rena, Rochelle, Eckert, Sylvie, Alexandrescu, Stefan, Sachinthani, Niradha, Finch, Michael, Petrillo, Karen E., Cheng, Li |
| المساهمون: |
Guerrero, Douglas, Amblard, Gilles R. |
| المصدر: |
Advances in Patterning Materials and Processes XLI |
| بيانات النشر: |
SPIE |
| سنة النشر: |
2024 |
| نوع الوثيقة: |
conference object |
| اللغة: |
unknown |
| DOI: |
10.1117/12.3010493 |
| الإتاحة: |
https://doi.org/10.1117/12.3010493Test |
| رقم الانضمام: |
edsbas.173378 |
| قاعدة البيانات: |
BASE |
