المؤلفون: Akiyo Yoshida, Jun Kato, Shin Inamoto, Yuji Otsuka, 加藤 淳, 吉田 晃世, 大塚 祐二, 稲元 伸

المصدر: 顕微鏡 / KENBIKYO. 2022, 57(1):18

المؤلفون: Zhong, Xiang Li, Haigh, Sarah J., Zhou, Xiaorong, Withers, Philip J.

المصدر: Zhong , X L , Haigh , S J , Zhou , X & Withers , P J 2020 , ' An in-situ method for protecting internal cracks/pores from ion beam damage and reducing curtaining for TEM sample preparation using FIB ' , Ultramicroscopy , vol. 219 , 113135 . https://doi.org/10.1016/j.ultramic.2020.113135Test

مصطلحات موضوعية: FIB (Focused Ion Beam), Internal cracks and pores, Ion beam damage, Porous materials, Redeposition, TEM (Transmission Electron Microscope) sample preparation

الإتاحة: https://doi.org/10.1016/j.ultramic.2020.113135Test
https://research.manchester.ac.uk/en/publications/d56ae568-86d1-4d96-8896-be440b41018bTest
http://www.scopus.com/inward/record.url?scp=85094322406&partnerID=8YFLogxKTest

المؤلفون: Agus Subagyo, Hokkaido University Team of Advanced Characterization Nanotechnology Platform of Nanotechnology Platform Japan Program, Norifumi Sakaguchi, Seiichi Watanabe, Tamaki Shibayama, Yasutaka Matsuo, 北海道大学微細構造解析プラットフォームチーム, 坂口 紀史, 松尾 保孝, 柴山 環樹, 渡辺 精一

المصدر: まてりあ / Materia Japan. 2019, 58(12):758

المؤلفون: Daisuke Nagata, Masayuki Tokitani, Takeo Muroga, 室賀 健夫, 時谷 政行, 永田 大介

المصدر: まてりあ / Materia Japan. 2018, 57(12):604

المؤلفون: Shibayama, Tamaki, Matsuo, Yasutaka, Agus, Aubagyo, Sakaguchi, Norifumi, Watanabe, Seiichi

المصدر: まてりあ. 58(12):758-762

مصطلحات موضوعية: peem (photo emission electron microscope), fe-sem (field-emission scanning electron microscope), xps (x-ray phtoelectron spectroscope), afm (atomic force microscope), hvem (high voltage electron microscope), fib (focused ion beam), spm (scanning probe microscope), cs-stem/eels (cs corrected-scanning transimssion electron microscope/electron energy loss spectroscope), stm (scanning tunnel microscope)

وصف الملف: application/pdf

الوصول الحر: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=jairo_______::0c187ad47c08b7e8a7f79a70e7822c17Test
http://hdl.handle.net/2115/88149Test

المؤلفون: SeungChol CHOI, Mikio HORIE, Yasuhisa ANDO

المصدر: Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing, Vol 2, Iss 2, Pp 252-264 (2008)

مصطلحات موضوعية: stainless steel-cantilever, interactive contact surface, dust, asperity array, non-asperity array, fib (focused ion beam), afm (atomic force microscope), Engineering machinery, tools, and implements, TA213-215, Mechanical engineering and machinery, TJ1-1570

وصف الملف: electronic resource

العلاقة: https://www.jstage.jst.go.jp/article/jamdsm/2/2/2_2_252/_pdf/-char/enTest; https://doaj.org/toc/1881-3054Test

الوصول الحر: https://doaj.org/article/ba0ab9e5788f4c9aa4dea3fd831ba3feTest

المؤلفون: Wielage, Bernhard, Mäder, Thomas, Weber, Daisy, Mucha, Herbert

المصدر: Tagungsband zum 11. Werkstofftechnischen Kolloquium in Chemnitz 01. - 02.10.2008

مصطلحات موضوعية: Dehnungssensor, Kohlenstofffasern, C-Fasern, CFK, Villari-Effekt, Magnetostriktion, magnetoelastisch, SHM, FIB, Focused Ion Beam, CVD, PVD, info:eu-repo/classification/ddc/620, ddc:620, Dehnungssensor, Kohlenstofffaserverstärkter Kunststoff, PVD-Verfahren, Magnetostriktion, Kohlenstofffaser

الإتاحة: https://monarch.qucosa.de/id/qucosa%3A19854Test
https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A19854/attachment/ATT-0Test/
https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A19854/attachment/ATT-1Test/

المؤلفون: Muratov, M., Myrzabekova, M., Guseinov, N., Nemkayeva, R., Ismailov, D., Shabelnikova, Ya., Zaitsev, S.

مصطلحات موضوعية: іонно-променева літографія, покриття, FIB (сфокусований іонний промінь), полі- (метилметакрилат) (PMMA), іон галію, чутливість, контрастність, ion-beam lithography, resist, FIB (focused ion beam), poly (methyl methacrylate) (PMMA), gallium ion, sensitivit, contrast

وصف الملف: application/pdf

العلاقة: Experimental Investigation of the Distribution of Energy Deposited by FIB in Ion-beam Lithography [Текст] / M. Muratov, M. Myrzabekova, N. Guseinov [et al.] // Журнал нано- та електронної фізики. – 2020. – Т. 12, № 4. – 04038. – DOI:10.21272/jnep.12(4).04038.; https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/79540Test

الإتاحة: https://doi.org/10.21272/jnep.12Test(4).04038
https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/79540Test

المؤلفون: Muratov, M., Myrzabekova, M., Guseinov, N., Nemkayeva, R., Ismailov, D., Shabelnikova, Ya., Zaitsev, S.

مصطلحات موضوعية: іонно-променева літографія, poly (methyl methacrylate) (PMMA), контрастність, FIB (сфокусований іонний промінь), sensitivit, полі- (метилметакрилат) (PMMA), contrast, іон галію, чутливість, resist, gallium ion, FIB (focused ion beam), ion-beam lithography, покриття

وصف الملف: application/pdf

الوصول الحر: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______2001::975e806c3bb13864d1a861a22d7ca0feTest
https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/79540Test

المؤلفون: DENG, Jun, HU, Ke-liu, ZHANG, Tao, LUO, Hao, HUANG, Kun

المصدر: DEStech Transactions on Computer Science and Engineering; 2nd International Conference on Modeling, Simulation and Optimization Technologies and Applications (MSOTA 2018) ; 2475-8841

مصطلحات موضوعية: IC Test, leakage current, FIB (Focused Ion Beam), Verification

العلاقة: https://www.dpi-journals.com/index.php/dtcse/article/view/27564Test

الإتاحة: https://doi.org/10.12783/dtcse/msota2018/27564Test
https://www.dpi-journals.com/index.php/dtcse/article/view/27564Test