التفاصيل البيبلوغرافية
| العنوان: |
金屬薄膜之物理氣相沉積方法 |
| المؤلفون: |
呂福興, LU, FU HSING, 李念庭, 范慧屏, 姚力仁, 詹慕萱, LEE, NIEN TING, FAN, HUNG PING, YAO, LI REN, CHAN, MU HSUAN |
| المساهمون: |
劉緒倫 |
| بيانات النشر: |
材料科學與工程學系 |
| سنة النشر: |
2011 |
| المجموعة: |
National Chung Hsing University Institutional Repository - NCHUIR / 國立中興大學 |
| الوصف: |
一種金屬薄膜之物理氣相沉積方法，可用以製備鈦、鋁與鈦鋁合金之金屬薄膜，其步驟包含有：於一密閉腔體內置入一基材，以及一由鈦、鋁或鈦鋁合金所製成之靶材，在該密閉腔體內抽真空達6.6×10 -4 ~1.3Pa之背景壓力後，將空氣與氬氣以流量比6/100以下進行混合後的混合氣體通入該密閉腔體，在工作壓力1.3×10 -2 Pa~1.3Pa下，施加電壓於該基材與該靶材，即可於該基材之表面沉積形成金屬薄膜。由於本發明採用隨處可得的空氣，且背景壓力要求不高，具有設備簡單、製程快速、成本低廉等優點。 |
| نوع الوثيقة: |
patent |
| اللغة: |
Chinese |
| العلاقة: |
http://twpat.tipo.gov.tw/tipotwoc/tipotwkmTest; http://hdl.handle.net/11455/56275Test |
| الإتاحة: |
http://hdl.handle.net/11455/56275Test |
| حقوق: |
none |
| رقم الانضمام: |
edsbas.1944812F |
| قاعدة البيانات: |
BASE |
