يعرض 1 - 10 نتائج من 55 نتيجة بحث عن '"F.H.Lu"', وقت الاستعلام: 1.57s تنقيح النتائج
  1. 1
    (Surf.Coat.Technol.,203:1709-1714)Kinetic studies on electrochemical stripping of CrN films

    المؤلفون: Y.C.Chieh, C.C.Chang, Y.L.Lai, F.H.Lu

    المساهمون: 國立中興大學材料科學與工程學系

    مصطلحات موضوعية: Chromium nitride, Electrochemical stripping, Cathodic arc deposition, Magnetron sputtering

    العلاقة: #PLACEHOLDER_PARENT_METADATA_VALUE#; Surf.Coat.Technol.,203:1709-1714; http://hdl.handle.net/11455/44335Test

    الإتاحة: http://hdl.handle.net/11455/44335Test

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  2. 2
    (Thin Solid Films,517(17):4782-4785)Low-temperature hydrothermal-galvanic couple synthesis of BaTiO3 thin films on Ti-coated silicon substrate

    المؤلفون: P.H.Chan, F.H.Lu

    المساهمون: 國立中興大學材料科學與工程學系

    مصطلحات موضوعية: Hydrothermal-galvanic couple, Hydrothermal, Titanium films, Barium titanate (BaTiO3)

    العلاقة: #PLACEHOLDER_PARENT_METADATA_VALUE#; Thin Solid Films, Volume 517, Issue 17, Page(s) 4782-4785.; http://hdl.handle.net/11455/44309Test

    الإتاحة: http://hdl.handle.net/11455/44309Test

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  3. 3
    (Thin Solid Films,517(17):5006-5009)X-ray photoelectron spectroscopy analyses of titanium oxynitride films prepared by magnetron sputtering using air/Ar mixtures

    المؤلفون: M.H.Chan, F.H.Lu

    المساهمون: 國立中興大學材料科學與工程學系

    مصطلحات موضوعية: Titanium oxynitride films, Air, Sputtering, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)

    العلاقة: #PLACEHOLDER_PARENT_METADATA_VALUE#; Thin Solid Films, Volume 517, Issue 17, Page(s) 5006-5009.; http://hdl.handle.net/11455/44276Test

    الإتاحة: http://hdl.handle.net/11455/44276Test

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  4. 4
    (Ceramics International.,35(7):2699-2704)The growth of interfacial compounds between titanium dioxide and bismuth oxide

    المؤلفون: C.D.Lu, L.S.Chang, Y.F.Lu, F.H.Lu

    المساهمون: 國立中興大學材料科學與工程學系

    مصطلحات موضوعية: A.Joining, B.Interfaces, B.Microstructure-final, D.TiO2, Bi2O3

    العلاقة: #PLACEHOLDER_PARENT_METADATA_VALUE#; Ceramics International, Volume 35, Issue 7, Page(s) 2699-2704.; http://hdl.handle.net/11455/44243Test

    الإتاحة: http://hdl.handle.net/11455/44243Test

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  5. 5
    (J.Mater.Res.,24(7):2400-2408)Influences of oxygen impurity contained in nitrogen on the reaction of titanium with nitrogen

    المؤلفون: F.H.Lu, B.F.Jiang, J.L.Lo, M.H.Chan

    المساهمون: 國立中興大學材料科學與工程學系

    مصطلحات موضوعية: oxygen impurity, nitrogen, titanium

    العلاقة: #PLACEHOLDER_PARENT_METADATA_VALUE#; J.Mater.Res., Volume 24, Issue 7, Page(s) 2400-2408.; http://hdl.handle.net/11455/44214Test

    الإتاحة: http://hdl.handle.net/11455/44214Test

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  6. 6
    以新穎之低溫水熱-化學電池法於鍍氮化鋯膜矽基材上製備鋯酸鋇膜

    المؤلفون: H.P.Teng, Y.C.Chieh, F.H.Lu

    المساهمون: 國立中興大學材料科學與工程學系

    مصطلحات موضوعية: 鋯酸鋇膜, 氮化鋯, 低溫水熱-化學電池法, Barium zirconate, ZrN, Hydrothermal-galvanic couple

    العلاقة: #PLACEHOLDER_PARENT_METADATA_VALUE#; 防蝕工程, Volume 22, Issue 2, Page(s) 73-81.; http://hdl.handle.net/11455/44365Test

    الإتاحة: http://hdl.handle.net/11455/44365Test

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  7. 7
    (Thin Solid Films,516(8):1876-1881)Plasma oxidation of Al thin films on Si substrates

    المؤلفون: F.H.Lu, H.D.Tsai, Y.C.Chieh

    المساهمون: 國立中興大學材料科學與工程學系

    مصطلحات موضوعية: Plasma oxidation, Al thin films, Alumina, Kinetics

    العلاقة: #PLACEHOLDER_PARENT_METADATA_VALUE#; Thin Solid Films, Volume 516, Issue 8, Page(s) 1876-1881.; http://hdl.handle.net/11455/44369Test

    الإتاحة: http://hdl.handle.net/11455/44369Test

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  8. 8
    (J.Vac.Sci.Technol.A.,26(3):481-484)Dielectric properties of high-density-plasma fluorinated-silicate glass by doping nitrogen

    المؤلفون: B.J.Wei, Y.L.Cheng, Y.L.Wang, F.H.Lu, H.C.Shih

    المساهمون: 國立中興大學材料科學與工程學系

    مصطلحات موضوعية: annealing, glass, permittivity, plasma CVD, plasma materials processing, thermal conductivity, thermal stability, thin films

    العلاقة: #PLACEHOLDER_PARENT_METADATA_VALUE#; J.Vac.Sci.Technol.A., Volume 26, Issue 3, Page(s) 481-484.; http://hdl.handle.net/11455/44367Test

    الإتاحة: http://hdl.handle.net/11455/44367Test

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  9. 9
    (Surf.Coat.Technol.,203:614-618)Preparation of titanium oxynitride thin films by reactive sputtering using air/Ar mixtures

    المؤلفون: M.H.Chan, F.H.Lu

    المساهمون: 國立中興大學材料科學與工程學系

    مصطلحات موضوعية: Titanium oxynitride, Air, Magnetron sputtering, High base pressure

    العلاقة: #PLACEHOLDER_PARENT_METADATA_VALUE#; Surf.Coat.Technol.,203:614-618; http://hdl.handle.net/11455/44361Test

    الإتاحة: http://hdl.handle.net/11455/44361Test

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  10. 10
    (Journal of Physics and Chemistry of Solids,69(2-3):315-319)Monte Carlo simulation of atoms diffusion via vacancies in fcc-structured nanofilms

    المؤلفون: Y.C.Chieh, F.H.Lu

    المساهمون: 國立中興大學材料科學與工程學系

    مصطلحات موضوعية: A.Nanostructures, A.Thin films, D.Defects, D.Diffusion

    العلاقة: #PLACEHOLDER_PARENT_METADATA_VALUE#; Journal of Physics and Chemistry of Solids, Volume 69, Issue 2-3, Page(s) 315-319.; http://hdl.handle.net/11455/44217Test

    الإتاحة: http://hdl.handle.net/11455/44217Test

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
أدوات البحث: أحصل على تغذية RSS — أرسل هذا البحث بالبريد الإلكتروني — حفظ البحث