-
1رسالة جامعية
-
2رسالة جامعية
-
3رسالة جامعية
المؤلفون: 詹慕萱, Chan, Mu-Hsuan
المساهمون: 呂福興, Fu-Hsing Lu, 中興大學, 杜正恭, 薛富盛, 翁明壽, 黃肇瑞, 李志偉, 何偉友, 李明憲, 陳弘穎
مصطلحات موضوعية: sputtering, 濺鍍法, air, TiN, TiNxOy, nitrogen-doped TiO2, 空氣, 氮化鈦, 氮氧化鈦, 氮摻雜二氧化鈦
-
4Patent
المساهمون: 劉緒倫
-
5Patent
المؤلفون: 呂福興, LU, FU HSING, 李念庭, 范慧屏, 姚力仁, 詹慕萱, LEE, NIEN TING, FAN, HUNG PING, YAO, LI REN, CHAN, MU HSUAN
المساهمون: 劉緒倫
-
6Patent
المساهمون: 劉緒倫
-
7Patent
المؤلفون: 呂福興, LU, FU HSING, 趙玲夙, 詹慕萱, CHAO, LING SU, CHAN, MU HSUAN
المساهمون: 劉緒倫
-
8Patent
المساهمون: 劉緖倫
-
9رسالة جامعية
المؤلفون: Chen, Huang-Chou, 陳皇州
المساهمون: 呂福興, 中興大學, 李志偉, 陳弘穎, 詹慕萱
مصطلحات موضوعية: magnetron sputtering, 磁控濺鍍, Low-vacuum, Al thin films, 低真空, Al薄膜
العلاقة: http://www.airitilibrary.com/Publication/alDetailedMesh1?DocID=U0005-0702201221194000Test; U0005-0702201221194000; http://hdl.handle.net/11455/10113Test
-
10رسالة جامعية
المؤلفون: 葉仁琇, Yeh, Jen-Hsiu
المساهمون: 呂福興, 中興大學, 李志偉, 陳弘穎, 詹慕萱
العلاقة: http://www.airitilibrary.com/Publication/alDetailedMesh1?DocID=U0005-0702201221071100Test; U0005-0702201221071100; http://hdl.handle.net/11455/10111Test