يعرض 1 - 3 نتائج من 3 نتيجة بحث عن '"Goto, Toshio"', وقت الاستعلام: 0.69s تنقيح النتائج
  1. 1
    دورية أكاديمية
    Ultrahigh-speed etching of organic films using microwave-excited nonequilibrium atmospheric-pressure plasma.

    المؤلفون: Yamakawa, Koji, Hori, Masaru, Goto, Toshio, Den, Shoji, Katagiri, Toshirou, Kano, Hiroyuki

    المصدر: Journal of Applied Physics; 8/15/2005, Vol. 98 Issue 4, p043311, 5p, 1 Black and White Photograph, 1 Diagram, 9 Graphs

    مصطلحات موضوعية: THIN films, SOLID state electronics, MICROELECTROMECHANICAL systems, ELECTROMECHANICAL devices, OXYGEN, HELIUM


    أضف إلى المفضلة
  2. 2
    دورية أكاديمية
    Etching process of silicon dioxide with nonequilibrium atmospheric pressure plasma.

    المؤلفون: Yamakawa, Koji, Hori, Masaru, Goto, Toshio, Den, Shoji, Katagiri, Toshirou, Kano, Hiroyuki

    المصدر: Journal of Applied Physics; 7/1/2005, Vol. 98 Issue 1, p013301, 6p, 1 Black and White Photograph, 1 Diagram, 10 Graphs

    مصطلحات موضوعية: SILICA, ATMOSPHERIC pressure, MICROELECTROMECHANICAL systems, ELECTROMECHANICAL devices, FOURIER transform infrared spectroscopy, SPECTRUM analysis


    أضف إلى المفضلة
  3. 3
    دورية أكاديمية
    Ultrahigh-speed etching of SiO2 with ultrahigh selectivity over Si in microwave-excited non equilibrium atmospheric pressure plasma.

    المؤلفون: Yamakawa, Koji, Hori, Masaru, Goto, Toshio, Den, Shoji, Katagiri, Toshirou, Kano, Hiroyuki

    المصدر: Applied Physics Letters; 7/26/2004, Vol. 85 Issue 4, p549-551, 3p, 1 Diagram, 3 Graphs

    مصطلحات موضوعية: ETCHING, SILICON oxide, NONEQUILIBRIUM plasmas, PLASMA gases, MICROELECTROMECHANICAL systems


    أضف إلى المفضلة
أدوات البحث: أحصل على تغذية RSS — أرسل هذا البحث بالبريد الإلكتروني — حفظ البحث