دورية أكاديمية

Characterisation of ultra-shallow disorder profiles and dielectric functions in ion implanted Si

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Characterisation of ultra-shallow disorder profiles and dielectric functions in ion implanted Si
المؤلفون: Mohacsi, I., Petrik, P., Fried, M., Lohner, T., van den Berg, J.A., Reading, M.A., Giubertoni, D., Barozzi, M., Parisini, A.
المساهمون: Hungarian Research Fund, European Commission Research Infrastructure Action, Hungarian NKTH ICMET07 project
المصدر: Thin Solid Films ; volume 519, issue 9, page 2847-2851 ; ISSN 0040-6090
بيانات النشر: Elsevier BV
سنة النشر: 2011
المجموعة: ScienceDirect (Elsevier - Open Access Articles via Crossref)
مصطلحات موضوعية: Materials Chemistry, Metals and Alloys, Surfaces, Coatings and Films, Surfaces and Interfaces, Electronic, Optical and Magnetic Materials
نوع الوثيقة: article in journal/newspaper
اللغة: English
DOI: 10.1016/j.tsf.2010.12.076
الإتاحة: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2010.12.076Test
https://api.elsevier.com/content/article/PII:S0040609010017062?httpAccept=text/xmlTest
https://api.elsevier.com/content/article/PII:S0040609010017062?httpAccept=text/plainTest
حقوق: https://www.elsevier.com/tdm/userlicense/1.0Test/
رقم الانضمام: edsbas.8318CAD7
قاعدة البيانات: BASE