كتاب
Ellipsometric Analysis of Plasma Deposited and Plasma Etched Materials
| العنوان: | Ellipsometric Analysis of Plasma Deposited and Plasma Etched Materials |
|---|---|
| المؤلفون: | Woollam, J. A. |
| المصدر: | Plasma Processing of Semiconductors ; page 375-395 ; ISBN 9789401064866 9789401158848 |
| بيانات النشر: | Springer Netherlands |
| سنة النشر: | 1997 |
| نوع الوثيقة: | book part |
| اللغة: | unknown |
| ردمك: | 978-94-010-6486-6 978-94-011-5884-8 94-010-6486-5 94-011-5884-3 |
| DOI: | 10.1007/978-94-011-5884-8_20 |
| الإتاحة: | https://doi.org/10.1007/978-94-011-5884-8_20Test |
| رقم الانضمام: | edsbas.699AE24F |
| قاعدة البيانات: | BASE |
| ردمك: | 9789401064866 9789401158848 9401064865 9401158843 |
|---|---|
| DOI: | 10.1007/978-94-011-5884-8_20 |