التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: |
Optimization of the acid leaching process by using an ultrasonic field for metallurgical grade silicon |
المؤلفون: |
Jian, Zhang, Tingju, Li, Xiaodong, Ma, Dawei, Luo, Ning, Liu, Dehua, Liu |
المصدر: |
Journal of Semiconductors ; volume 30, issue 5, page 053002 ; ISSN 1674-4926 |
بيانات النشر: |
IOP Publishing |
سنة النشر: |
2009 |
نوع الوثيقة: |
article in journal/newspaper |
اللغة: |
unknown |
DOI: |
10.1088/1674-4926/30/5/053002 |
الإتاحة: |
https://doi.org/10.1088/1674-4926/30/5/053002Test |
رقم الانضمام: |
edsbas.CACA2246 |
قاعدة البيانات: |
BASE |