دورية أكاديمية

Optimization of the acid leaching process by using an ultrasonic field for metallurgical grade silicon

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Optimization of the acid leaching process by using an ultrasonic field for metallurgical grade silicon
المؤلفون: Jian, Zhang, Tingju, Li, Xiaodong, Ma, Dawei, Luo, Ning, Liu, Dehua, Liu
المصدر: Journal of Semiconductors ; volume 30, issue 5, page 053002 ; ISSN 1674-4926
بيانات النشر: IOP Publishing
سنة النشر: 2009
نوع الوثيقة: article in journal/newspaper
اللغة: unknown
DOI: 10.1088/1674-4926/30/5/053002
الإتاحة: https://doi.org/10.1088/1674-4926/30/5/053002Test
رقم الانضمام: edsbas.CACA2246
قاعدة البيانات: BASE