التفاصيل البيبلوغرافية
| العنوان: |
極薄希土類酸化膜/Si(100)界面構造（極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術） |
| المؤلفون: |
野平博司, Hiroshi Nohira, 白石 貴義, 高橋 健介, 柏木 郁未, 大島 千鶴, 大見俊一郎, Shun-ichiro OHMI, 岩井洋, HIROSHI IWAI, 城森 慎司, 中嶋 薫, 鈴木 基史, 木村 健二, 服部 健雄 |
| بيانات النشر: |
電子情報通信学会 |
| سنة النشر: |
2010 |
| المجموعة: |
T2R2 (Tokyo Tech Research Repository) / 東京工業大学リサーチリポジトリ |
| نوع الوثيقة: |
conference object |
| اللغة: |
Japanese |
| العلاقة: |
http://t2r2.star.titech.ac.jp/cgi-bin/publicationinfo.cgi?q_publication_content_number=CTT100600007Test; oai:t2r2.star.titech.ac.jp:50098491 |
| الإتاحة: |
http://t2r2.star.titech.ac.jp/cgi-bin/publicationinfo.cgi?q_publication_content_number=CTT100600007Test |
| رقم الانضمام: |
edsbas.9343D9A6 |
| قاعدة البيانات: |
BASE |
