مؤتمر
A comparison of planarization properties of TEOS and SiH/sub 4/ PECVD oxides
| العنوان: | A comparison of planarization properties of TEOS and SiH/sub 4/ PECVD oxides |
|---|---|
| المؤلفون: | Magnella, C.G., Ingwersen, T., Fleck, E. |
| المصدر: | 1988. Proceedings., Fifth International IEEE VLSI Multilevel Interconnection Conference |
| بيانات النشر: | IEEE |
| سنة النشر: | 2003 |
| نوع الوثيقة: | conference object |
| اللغة: | unknown |
| DOI: | 10.1109/vmic.1988.14214 |
| الإتاحة: | https://doi.org/10.1109/vmic.1988.14214Test http://xplorestaging.ieee.org/ielx2/759/557/00014214.pdf?arnumber=14214Test |
| رقم الانضمام: | edsbas.49BC42AF |
| قاعدة البيانات: | BASE |
| DOI: | 10.1109/vmic.1988.14214 |
|---|