التفاصيل البيبلوغرافية
| العنوان: |
Functional resist materials for negative tone development in advanced lithography |
| المؤلفون: |
Tarutani, Shinji, Fujii, Kana, Yamamoto, Kei, Iwato, Kaoru, Shirakawa, Michihiro |
| المساهمون: |
Somervell, Mark H., Wallow, Thomas I. |
| المصدر: |
SPIE Proceedings ; Advances in Resist Materials and Processing Technology XXIX ; ISSN 0277-786X |
| بيانات النشر: |
SPIE |
| سنة النشر: |
2012 |
| نوع الوثيقة: |
conference object |
| اللغة: |
unknown |
| DOI: |
10.1117/12.916281 |
| الإتاحة: |
https://doi.org/10.1117/12.916281Test |
| رقم الانضمام: |
edsbas.B89F292A |
| قاعدة البيانات: |
BASE |
