Roughness power spectral density as a function of resist parameters and its impact through process

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Roughness power spectral density as a function of resist parameters and its impact through process
المؤلفون: Cutler, Charlotte, Thackeray, James W., DeSisto, Jason, Lee, Choong-Bong, Li, Mingqi, Aqad, Emad, Hou, Xisen, Marangoni, Tomas, Kaitz, Joshua, Rena, Rochelle, Mack, Chris, Nelson, John
المساهمون: Kye, Jongwook, Owa, Soichi
المصدر: Optical Microlithography XXXI
بيانات النشر: SPIE
سنة النشر: 2018
نوع الوثيقة: conference object
اللغة: unknown
DOI: 10.1117/12.2297690
الإتاحة: https://doi.org/10.1117/12.2297690Test
رقم الانضمام: edsbas.DC826F6B
قاعدة البيانات: BASE