Study on planarization performance of spin on hardmask

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Study on planarization performance of spin on hardmask
المؤلفون: Yun, Huichan, Kim, Jinhyung, Kim, Yoona, Jeong, Seulgi, Lim, Sanghak, Yu, Jeong Yun
المصدر: 2018 China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC)
بيانات النشر: IEEE
سنة النشر: 2018
نوع الوثيقة: conference object
اللغة: unknown
DOI: 10.1109/cstic.2018.8369206
الإتاحة: https://doi.org/10.1109/cstic.2018.8369206Test
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/8360436/8369163/08369206.pdf?arnumber=8369206Test
رقم الانضمام: edsbas.6A27E1D3
قاعدة البيانات: BASE