-
1دورية أكاديمية
المؤلفون: Chenxu Zhu, Huseyin Ekinci, Aixi Pan, Bo Cui, Xiaoli Zhu
المصدر: Microsystems & Nanoengineering, Vol 10, Iss 1, Pp 1-23 (2024)
مصطلحات موضوعية: nanofabrication, electron beam lithography, plasma etching, nonplanar and irregular surfaces, Technology, Engineering (General). Civil engineering (General), TA1-2040
وصف الملف: electronic resource
العلاقة: https://doaj.org/toc/2055-7434Test
-
2دورية أكاديمية
المؤلفون: S. Schermer, C. Helke, M. Reinhardt, S. Hartmann, F. Tank, J. Wecker, G. Heldt, A. Voigt, D. Reuter
المصدر: Micro and Nano Engineering, Vol 23, Iss , Pp 100264- (2024)
مصطلحات موضوعية: electron beam lithography, I-line stepper lithography, Mr-EBL 6000.5, ILM&M, Photonic integrated circuit, Electronics, TK7800-8360, Technology (General), T1-995
وصف الملف: electronic resource
العلاقة: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2590007224000273Test; https://doaj.org/toc/2590-0072Test
-
3دورية أكاديمية
المؤلفون: Doshi Siddharth, Ludescher Dominik, Karst Julian, Floess Moritz, Carlström Johan, Li Bohan, Mintz Hemed Nofar, Duh Yi-Shiou, Melosh Nicholas A., Hentschel Mario, Brongersma Mark, Giessen Harald
المصدر: Nanophotonics, Vol 13, Iss 12, Pp 2271-2280 (2024)
مصطلحات موضوعية: direct electron beam lithography, metallic polymer, electrically switchable diffraction grating, pedot:pss, Physics, QC1-999
وصف الملف: electronic resource
العلاقة: https://doaj.org/toc/2192-8614Test
-
4دورية أكاديمية
المؤلفون: J. Shapiro, M. Kahl, L.V. Litvin
المصدر: Micro and Nano Engineering, Vol 22, Iss , Pp 100238- (2024)
مصطلحات موضوعية: Electron beam lithography, Point spread function, Electronics, TK7800-8360, Technology (General), T1-995
وصف الملف: electronic resource
العلاقة: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2590007224000017Test; https://doaj.org/toc/2590-0072Test
-
5دورية أكاديمية
المؤلفون: Tatsuki SUGIHARA, Arata KANEKO
المصدر: Nihon Kikai Gakkai ronbunshu, Vol 90, Iss 930, Pp 23-00232-23-00232 (2024)
مصطلحات موضوعية: electron beam lithography, electron beam, monte carlo simulation, nanoimprint mold, eb resist, Mechanical engineering and machinery, TJ1-1570, Engineering machinery, tools, and implements, TA213-215
وصف الملف: electronic resource
العلاقة: https://www.jstage.jst.go.jp/article/transjsme/90/930/90_23-00232/_pdf/-char/enTest; https://doaj.org/toc/2187-9761Test
-
6دورية أكاديمية
المؤلفون: Wei Tao, Florian Laible, Abdelhamid Hmima, Thomas Maurer, Monika Fleischer
المصدر: Nano Convergence, Vol 10, Iss 1, Pp 1-10 (2023)
مصطلحات موضوعية: Nanorings, In-situ shape-altering, Electron beam lithography, Wet-etching transfer, Flexible plasmonics, Technology, Chemical technology, TP1-1185, Biotechnology, TP248.13-248.65, Science, Physics, QC1-999
وصف الملف: electronic resource
العلاقة: https://doaj.org/toc/2196-5404Test
-
7دورية أكاديمية
المؤلفون: Xujie Tong, Yifang Chen, Zijian Xu, Yijie Li, Zhenjiang Xing, Chengyang Mu, Jun Zhao, Xiangjun Zhen, Chengwen Mao, Renzhong Tai
المصدر: Journal of Synchrotron Radiation, Vol 30, Iss 2, Pp 319-326 (2023)
مصطلحات موضوعية: dielectric kinoform zone plate lens, greyscale electron beam lithography, high-efficiency focusing by soft x-rays, x-ray microscopy, Nuclear and particle physics. Atomic energy. Radioactivity, QC770-798, Crystallography, QD901-999
وصف الملف: electronic resource
العلاقة: http://scripts.iucr.org/cgi-bin/paper?S1600577522012115Test; https://doaj.org/toc/1600-5775Test
-
8دورية أكاديمية
المؤلفون: Ashwanth Subramanian, Nikhil Tiwale, Won‐Il Lee, Kim Kisslinger, Ming Lu, Aaron Stein, Jiyoung Kim, Chang‐Yong Nam
المصدر: Advanced Materials Interfaces, Vol 10, Iss 28, Pp n/a-n/a (2023)
مصطلحات موضوعية: electron beam lithography, extreme ultraviolet lithography, organic–inorganic hybrid, photoresist, vapor‐phase infiltration, Physics, QC1-999, Technology
وصف الملف: electronic resource
العلاقة: https://doaj.org/toc/2196-7350Test
-
9دورية أكاديمية
المؤلفون: Zaka Ullah, Illani M. Nawi, Muath Al-Hasan, Muhammad Junaid, Ismail Ben Mabrouk, Abdul Rehman
المصدر: IEEE Access, Vol 11, Pp 41546-41555 (2023)
مصطلحات موضوعية: Absorption, electron beam lithography, metasurface, optical characterization, plasmonic coupling, Electrical engineering. Electronics. Nuclear engineering, TK1-9971
وصف الملف: electronic resource
-
10دورية أكاديمية
المؤلفون: Zhifu Feng, Damiano Giubertoni, Alessandro Cian, Matteo Valt, Mario Barozzi, Andrea Gaiardo, Vincenzo Guidi
المصدر: Micromachines, Vol 14, Iss 11, p 2060 (2023)
مصطلحات موضوعية: gas sensors, nano heaters, electron beam lithography, focused ion beam, ion beam lithography, power consumption, Mechanical engineering and machinery, TJ1-1570
وصف الملف: electronic resource