-
1دورية أكاديمية
المساهمون: Urbańczyk, Wacław. Redakcja
المصدر: ; http://aleph.bg.pwr.wroc.pl/F/?func=find-b&request=000122307+&find_code=SYS&adjacent=N&local_base=TUR&x=64&y=13&filter_code_1=WLN&filter_request_1=&filter_code_2=WYR&filter_request_2=&filter_code_3=WYR&filter_request_3=&filter_code_4=WFT&filter_request_4=&filter_code_5=WSB&filter_request_5Test= ; http://opticaapplicata.pwr.edu.plTest/
مصطلحات موضوعية: optyka, electron beam lithography (EBL), device fabrication, exposition time reduction
العلاقة: oai:dbc.wroc.pl:publication:151350; Optica Applicata; Optica Applicata, Vol. 49, 2019; Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 1; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki; https://dbc.wroc.pl/dlibra/docmetadata?showContent=true&id=109418Test; oai:dbc.wroc.pl:109418
-
2دورية أكاديمية
المساهمون: Urbańczyk, Wacław. Redakcja
المصدر: ; http://aleph.bg.pwr.wroc.pl/F/?func=find-b&request=000122307+&find_code=SYS&adjacent=N&local_base=TUR&x=64&y=13&filter_code_1=WLN&filter_request_1=&filter_code_2=WYR&filter_request_2=&filter_code_3=WYR&filter_request_3=&filter_code_4=WFT&filter_request_4=&filter_code_5=WSB&filter_request_5Test= ; http://opticaapplicata.pwr.edu.plTest/
مصطلحات موضوعية: optyka, electron beam lithography (EBL), exposition of big areas, exposition time optimization
وصف الملف: application/pdf
العلاقة: oai:dbc.wroc.pl:publication:41738; Optica Applicata; Optica Applicata, Vol. 46, 2016, nr 2; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki; https://dbc.wroc.pl/dlibra/docmetadata?showContent=true&id=37777Test; oai:dbc.wroc.pl:37777